试述我国集成电路布图设计的立法保护

      我国的《集成电路布图设计保护条例》于2001年10月1日起施行。采用专门立法的形式保护集成电路布图设计既尊重了国际知识产权保护的原则，又便于与国际法律接轨，而且这部条例既保护了集成电路布图设计专有权人的权益，又考虑到了国家和公众的利益，使技术进步避免受到人为的限制。 　　 

       自1985年4月1日专利法生效至我国开始施行《集成电路布图设计保护条例》止，国家知识产权局专利局受理的半导体技术领域已经公开的发明专利申请8200多件，其中有相当数量的申请是关于集成电路的。专门立法保护集成电路布图设计，促进了各生产厂商进一步加大对集成电路布图设计的研究与开发，从而促使众多的新设计、新产品问世。 　　

       特 点 　　《集成电路布图设计保护条例》中所规定的集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。一块集成电路通过控制电流在其电路中的流动来实现其功效。生产集成电路的主要原材料并不昂贵，但经过加工以后得到的集成电路产品的价值往往可以达到其材料价值的几十倍，几百倍甚至上千倍。在其价值成本中，大部分都是知识、技术与信息所增加的附加价值。这种附加价值主要集中在以集成电路为载体而体现出来的人类智慧的结晶——布图设计的价值上。 　　

       布图设计是一种有许多不同层面的三维设计，每一层面上又有许多复杂的电路布图装置图，而且最重要的是，真正可以用于实践的布图设计是经过了特殊的工艺按实物尺寸复制在玻璃板上，即掩膜版。布图设计作为人类智力劳动的成果，具有知识产权客体的许多共性特征，其特点主要表现为： 　　可复制性。当布图设计的载体为掩膜版时，它以图形方式存在，这时只要对全套掩膜版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁盘为载体时，同样可用通常的拷贝方法复制。当布图设计的载体为集成电路芯片时，它同样可以被复制，只是复制过程相对要复杂一些。 　　表现形式的非任意性。布图设计是与集成电路的功能相对应的。布图设计的表现形式要受到电路参数、实物产品尺寸、工艺技术水平、半导体材料结构和杂质分布等技术因素和物理规律的限制，因此开发新的功能相同或相似的集成电路，其布图设计不得不遵循共同的技术原则和设计原则，有时还要采用相同的线宽，甚至采用相同的电路单元。 　　布图设计作为一种元件的″三维配置″，这种配置方式本身是无形的、抽象的，是人类智慧的体现，但它可以通过有形的载体表现出来而为人所感知。当它被制作成芯片时，表现为一定的构形；当它被制成掩膜版时，表现为一定的图形；当它被输入计算机时，则以一定的数据代码的方式存储在磁盘之中。 　　由此，布图设计很难在传统的知识产权法律保护体系中得到完善的保护。制定出专门的单行法律加以保护是世界上大多数国家的共识。我国也正是采用了此种立法方式。 　　 

       理论体系 　　我国集成电路布图设计的知识产权保护体系的核心概念即布图设计专有权。 　 概念：布图设计专有权就是布图设计的创作人或者其他权利人对布图设计所享有的权利，即指国家依据有关《集成电路布图设计保护条例》规定，对于符合一定手续和条件的布图设计，授予其创作人或其他人在一定期间内对布图设计进行复制和商业利用的权利。 　　三要素：1．布图设计专有权的主体，即布图设计权利人，是指依照《集成电路布图设计保护条例》的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或其他组织。 　　2．布图设计专有权的客体，《集成电路布图设计保护条例》中规定，布图设计专有权的客体是具有独创性的布图设计。布图设计的独创性是指该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。但如由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体符合前述条件的，也是受到保护的客体。我国《集成电路布图设计保护条例》对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。 　　3．布图设计专有权，其中复制权即权利人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计或者含有该布图设计的集成电路；商业利用权，即布图设计权人享有的将受保护的布图设计以及含有该受保护的布图设计的集成电路或含此种集成电路的产品进行商业利用的权利。 　　

       权利的限制 　　根据我国《集成电路布图设计保护条例》第四章的规定，我国对布图设计专有权行使进行了限制，对于下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬： 　　1．为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的。 　　2．在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的。 　　3．对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。 　　4．受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的。 　　同时，在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。 　　

       侵权及其认定 　　布图设计侵权中非法进行商业利用的行为比较容易认定，也易取证，但对非法复制的认定却存在一定的难度。非法复制主要有两种： 　　（1）完全复制，即将原布图设计原封不动照搬下来。这种情况比较好认定，举证责任主要集中在开发时间先后上。 　　（2）部分复制，即仿制其具有独创性的部分，这是目前存在的布图设计侵权行为中占比重最大，而且也是最难认定的一种侵权行为。它之所以难以认定的主要原因是布图设计中有许多共同遵循的基本电路原理和技术原则，再加上新旧布图设计之间需有兼容性的要求，在功能相类似的布图设计中不可避免地会有一些相同或相似的地方。尤其在制作成集成电路产品以后，肉眼无法观察，必须借助机器进行复杂的技术处理后才能认定，这就更增加了对此种侵权行为认定的难度。 　　总之，我国的《集成电路布图设计保护条例》已初步建立了我国的集成电路布图设计的知识产权保护理论体系，但我们仍需要在今后的布图设计权利保护实践中进一步改善我国的保护制度，使布图设计专有权的保护更全面更完善，从而促进我国集成电路产业的进一步发展。